第二百四十四章 制裁？那就搞X光刻机！

    【fbi突然出动，抓住了潜伏其内十年的卧底。】

    【fbi抓住一名卧底，疑似华国人？】

    【近日fbi抓住一名卧底，在庭审前日晚畏罪自杀】

    【卧底自杀？还是另有原因！】

    ……

    一条条相关的新闻，开始争抢起了各种头条。

    这样的新闻，不得不引起人们的注意，卧底？

    还有卧底畏罪自杀？

    对于这样的消息，每个看到的人都感到震惊。

    华国国内，在网络上讨论的人也很多，都不知道这个卧底是否真的是他们的人。

    毕竟这些都只是从国外传出的消息，没有人知道详情。

    而相比较这个政治上的事情，对于半导体界人来说，却更加关注另外一条消息。

    国外的制裁技术又加上了几条，一条，准激光发射器。

    这个东西，是光刻机光源中十分必要的一个部件。

    其主要就是利用二氧化碳激光器发射出极高能的激光，输出超过30kw平均功率的激光束，脉冲峰值最高可达几兆瓦，然后如此高能的激光，击打在不断从上方滴下的锡珠上，然后使其发射出波长为13.5nm的极紫外光。

    而想要在二氧化碳激光器上实现如此高的功率，普通的技术完全行不通，而华国当前的二氧化碳激光器在功率上并不能达到这种要求，而需要知道的是，这个功率，最终影响的就是euv光源的实际功率。

    如果euv光源没有足够大的功率，对他们的影响，十分之大。

    此外，还有其他几种euv光源中较为重要的传感器也遭到了制裁。

    这样一来，他们再想要研发光刻机，就必须先在这些方面实现突破，否则光源搞不出来，全部都白搭。

    一时之间，华国半导体界，又掀起了一片唱衰的声音。

    要是继续一个一个地搞下去，他们得花多少时间？

    到时候国外说不定早就找到了能够突破现有光刻机的技术了。

    而除了这些和光刻机技术有关的东西之外，国外又在原材料之一的光掩膜版上面进行了制裁，光掩膜版是光刻流程中同样十分重要的东西，只有通过掩膜版，极紫外光才能实现直接光刻。

    而现在主流掩膜版中，都是以石英作为材料的，而这次主要制裁项目，就是这种石英材料，而这种石英材料的生产工艺难度十分高，国内一直都需要进口国外的。

    而现在他们买不了石英材料了，就等于说国内掩膜版厂商，全部都直接废了。

    这几招下来，国内半导体产业链便再一次遭到了重创。

    ……

    “妈的，那帮洋鬼子，肯定是看我们又搞出了顶级的镜面抛光技术后，想出来的坏事情，真是太不要脸了！”

    定光研究所，林晓的办公室中，罗明愤愤不平地说道。

    但林晓却只是静静地坐在自己的办公桌前，思考着问题。

    而罗明还气不过，继续说道：“他们还抓了一个卧底，声称是我们的人，然后还宣传他在监狱里面上吊自杀？明显就是再给我们示威呢！监狱里面能刚好有个绳子让人上吊吗？”

    “呸，恶心！”

    而听到罗明这么说，林晓却是眉头一皱：“卧底？上吊自杀？”

    “是啊，国外的消息，都传回来了，简直是太可恶了！”

    罗明无比气愤地说道。

    但是林晓却倏然站了起来。

    卧底？

    然后恰好在这个时间节点被发现？

    他的记忆力很好，同时联想能力也很强，他立马想到了当初沃尔夫奖的事情。

    不就是有国安的人告诉了他，收到了情报，让他不要去领奖了吗？

    当时他也想过那些情报是从哪来的，但是并没有思考太多，现在想一想，是否就是因为有这样的卧底为他们传来的消息？

    他呼吸不由急促了起来，如果那个卧底真的是他们的人，也真的是因为他而被发现。

    那他……

    旁边罗明见到林晓之前听到被制裁后还不慌不忙的，结果一提到那个被抓的卧底事情，就变成了这副样子，不由疑惑道：“林教授，怎么了？”

    林晓摆了摆手，沉沉地说道：“我需要打个电话，麻烦你了。”

    罗明知道林晓是希望自己回避一下，他点了点头，“好的，你打吧，要是有什么事情的话，就给我说。”

    “嗯。”

    林晓点点头，看着罗明离开后，他拿出手机，想了想，最后找到了当初那个给他打电话的国安人员的号码，虽然已经过了几个月，不过他还是记得这个电话是什么时候打给他的，在通讯录里面翻一翻就找到了。

    而后，他拨了过去。

    过去了大概一会儿，电话接通了，对方的声音显然有些惊讶：“是林教授吗？”

    “是我，你是国安的同志吧？”

    “是的，请问您打电话来是有什么事情吗？”

    “新闻上那个被抓住的卧底，是不是当初帮助过我的人？”

    林晓问道，心中十分紧张。

    “呃……这个你不用想太多，我们是不会往国外派遣间谍的。”

    这位国安的工作人员给出了一个很官方的回答。

    林晓没有放弃，仍然问道：“我知道，但是我只是想确认一下，他是不是帮助过我的人，不会涉及机密，当然，我也不可能泄露这种机密。”

    听到林晓这么说，这名工作人员哑然片刻，随后道：“林教授，麻烦您先等等，我去问问我的领导，待会儿我再给你回电话。”

    “好的，麻烦你了。”

    林晓说道。

    而后挂了电话，他开始了等待。

    等待的过程中，他只能在心中期盼，对方给出他一个否决的答案，只是他联想得太多。

    只是他的心中始终有一种不安的感觉，让他认为自己十分有必要确定这件事情。

    就这样，时间很快过去，终于，他的手机再次响了起来。

    他连忙接通，问道：“怎么样？”

    对方说道：“林教授，我只能告诉您一句话，当初帮助您的人，确实在近日于狱中上吊身亡，但关于他是不是新闻上那个人，抱歉，我不能透露给你。”

    林晓沉默了下来。

    对方没有承认这两者之间的联系，无非就是因为保密的缘故，不便透露。

    但显然，对方已经暗示了。

    近日于狱中上吊身亡，除了这个人，还能有谁呢？

    对方听到他一直没有说话，便说道：“林教授，如果你没有什么事情的话，我就挂了，其实不瞒你说，待会儿我们要去吊唁一位牺牲的同志，和你一样，我们都很伤心。”

    林晓这时终于开口：“那个帮助我的人，他的家人是否安好？我能为他的家人做点什么吗？”

    “这点您放心，当初他帮助了你，就是帮助了我们，我们也有相应措施。”

    “好的，那就……感谢你们了。”

    “呵呵，保护您这样重要的科学家，是我们的使命，我们这行人都有一种宿命感，您也不需要太过难过，如果可以的话，我们更加期待的是，您能够在您的事业中，做出更多的事迹，这样，我们的使命，才有意义。”

    “我会的。”

    “嗯，那就不打扰您了，再见。”

    “再见。”

    电话结束了。

    林晓握住手机，什么事情都没有做。

    办公室中一片沉凝。

    直到半晌后，他终于回过了神，但却是闭上了眼。

    “系统。”

    “使用【机械整体优化指导】，对当前euv光刻机，优化方向为，x光刻机，整体思路为，利用x光刻机直写式优势，通过晶体衍射效应，进而实现对x光的缩放效果，从而实现大规模生产。”

    “正在进行优化，请稍后……”

    林晓再次睁开了眼睛。

    逝者已矣，生者如斯。

    那位国安的工作人员说得很好，他们期待着他能够做出更多，以及更加重要的成就，那才显得他们的使命有意义。

    那他，也不能辜负了他们的期望，尤其是那位因他而死的同志。

    国外要在euv光源上进行制裁，那他就换x光。

    国外要在掩膜版上进行制裁，那他就搞无掩模x光刻机。

    他不会因为敌人的所作所为生气，他只会让那些敌人们后悔。

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