第一百八十二章 浸入式技术

    这个时期，手机行业的竞争正在迅速形成。

    市场日益激烈。

    翻盖手机被制造出来了，滑盖手机也开始出现，这让那些手机厂商，根本无暇分心研究触摸屏这个领域。

    再加上，现在的客户，他们更在意手机是否结实耐用、电池续航时间长不长，等等“质量”问题，所以谁也不会浪费时间，金钱，去考虑制造市场看不上的手机。

    陈伟东提出来的这个设想，索尼公司并不好看，但看在他的“巨资”份上，还是很乐意陪他疯一把的。

    因为这不仅可以累积经验，也可以加快技术的革新。

    无论怎么看，都是双赢。

    离开索尼公司之后，陈伟东马上就打电话联系了陈杰，跟他说明了前期需要的准备工作。

    包括和索尼公司的一些合作细节。

    想要跨越最少十年的技术壁垒，可不是一件容易的事情。

    光是一个手机的操作系统，就不是一般的难。

    虽然无穷大计算机公司，有上千名优秀的程序员，但他们擅长的是应用软件开发，对于如何设计一款手机操作系统，完全就是抓瞎。

    最后，计算机部门经过研究讨论，决定还是从模彷开始。

    否则从无到有，光是摸索，就要花费大量的时间。

    山寨，永远是追上对方技术脚步最快的方法。

    他们找来和塞班公司联名开发的新款手机，准备先剖析塞班系统的内核，然后尝试设计出一款简单的操作系统，最后再加以改进....

    这个时候，由于无穷大公司和精密研究所的关系缓和，不少研究人员又陆续回到了实验室。

    他们乐得嘴都合不拢了，都在交口称赞，还是陈杰大度。

    然后，就一头钻进了实验室，继续他们之前没有完成的研究。

    按理来说，他们这些“外来人员”，使用公司的仪器，是要收费的，但陈杰通过赵工了解到，精密研究所简直穷的叮当响，一年的经费都才七八百万。

    这也就让他实在没好意思开口要钱。

    克鲁格教授，也在最近一个月，和陈杰等人进行了多次讨论，终于确定了研究方向。

    他现在的首要目标，就是设计出一款芯片图纸，这个难度非常大，需要很多人配合。

    小小的芯片，集合了全人类的智慧，其实就连美利坚，也没办法完全掌握所有的环节。

    一枚手机芯片的面积基本上只有10平方毫米左右，也就是和大拇指甲盖差不多大。

    而且这里面可不是只有cpu一个结构，其他诸如gpu，npu，isp，dac解码芯片，基带等等结构全部都要位列其中。

    设计师要把几十亿个晶体管，排列在这个指甲大小般的区域内，并让它们准确无误的进行工作。

    精准度就好比用笔，在上面凋刻出一整座城市。

    一款芯片从图纸阶段到实物阶段，大概需要经过2个步骤，分别是芯片设计和芯片制造。

    打造一款芯片就像是建造一栋大楼，而芯片设计就像给大楼设计建筑图纸。

    美利坚在芯片设计领域，占据了绝对优势。

    他们的半导体产业起步最早，世界上第一块芯片就是他们制造出来的。

    芯片是半导体产业的产品，半导体是用来做芯片的材料。

    这个行业，通俗一点，就叫芯片行业，学术一点就叫半导体行业，实际上相当于土豆和马铃薯的区别。

    仅仅设计出芯片，还是远远不够的，他还需要用光刻机在芯片上进行凋刻。

    光刻机就相当于凋刻用的“笔”。

    而世界上，只有3个国家有能力制造出光刻机，其中能制造出高端光刻机的，只有岛国和荷兰。

    岛国的国土面积虽然不大，却掌握着强大的科技实力和工业基础。

    在八十年代，岛国的光刻机是全世界最先进的。

    那个时候，尼康、佳能公司也能生产光刻机，曾一度占领行业50%以上的份额，包括ibm、英特尔、德州仪器在内的大客户，无一不争相抢购他们的光刻机。

    然而，由于这两家公司的一个失误，导致岛国将光刻机巨头的皇冠，拱手让给了荷兰的asml。

    asml从2000年左右开始研发euv光刻机，并决定大规模量产。

    彼时，岛国光刻机企业却认为系统太过复杂，并未选择跟进。

    那个时候的asml还是一家小公司，面对岛国制霸光刻机市场，他们决定以小博大，弯道超车，试一试台积电，林本坚提出的“浸入式光刻机技术”。

    这个技术，你听起来觉得很高端，实际上是一种非常简单的技术，简单到陈伟东第一次听说的时候，还以为自己听错了。

    所以他对这件事情印象深刻。

    浸入式光刻技术，就是在光刻镜头，与待刻的硅晶片之间，充满液体，就可以大幅度提高光刻机的加工精度！

    陈伟东将这项“技术”，告诉了克鲁格教授。

    最近这些天，他在实验中将那台从树屋研究所带回来的光刻机，精度一百九十纳米的光刻机，成功刻制出了一百零五纳米的密集图形！

    这一结果让他欣喜若狂！

    几近失态！

    通常的光刻机，在光刻镜头与硅晶圆之间，没有任何遮挡。

    当然，从另一个角度来说，它们之间，存在的是空气。

    浸入式的思路，就是用液体来替换掉中间的空气。

    由于液体具有折光率，所以当紫外线通过液体介质之后，它的光源波长就会缩短，从而起到精微刻制的作用。

    本来他们还觉得有些老旧的光刻机，突然摇身一变，成为了一百零五纳米的光刻机，远远的超过了现有的光刻技术！

    其实这个浸入式光刻技术，并不算asml首创。

    早在80年代初，就有科学家采用浸入技术，成功提高了光刻效果。

    然而，这项技术，它的液体很容易污染光学镜片。

    所以这个这个时期的主流光刻技术研究，只是将其作为一个过渡手段，并没有起到足够的重视。

    一旦下一代光刻技术成熟，便会毫不犹豫的抛弃浸入式光刻。


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